拓材科技CIOE光博会回顾丨落幕不散场，精彩不止步

本届展会首次开启了深圳国际会展中心的12个展馆，展示面积突破24万平方米，创历史新高。其中8号展馆的红外技术及应用展是亚太地区极具影响力的红外技术专业展览会，汇聚行业知名企业，全面展示红外、紫外及太赫兹领域的材料、器件、设备及应用的新产品、新技术、新趋势，推动产业从军事走向工业和民用市场，搭建集品牌展示、商贸洽谈、高效维护及开拓客户关系为一体的专业交流平台。

作为参展企业之一，武汉拓材科技携多款产品及半导体超高纯材料解决方案亮相光博会，反响热烈！接下来，让我们一起来回顾展会的精彩瞬间吧！ 

拓材科技本次主要展示了MBE级超高纯材料：8N高纯铟、7N5高纯镓、6N5高纯铝、7N5砷，以及广泛应用于红外成像、红外探测领域的7N5高纯碲、7N5高纯镉、7N5高纯锑、7N5高纯锌等材料，第二代半导体材料砷化镓、磷化铟和第四代新型半导体材料氧化镓等，这些产品的精彩亮相，吸引了众多国内、外行业专家、客户莅临展位参观深入交流。

现场拓材科技的工作人员详细地向客户讲解了展出产品、以及高端前沿的技术和丰富的优秀案例等，并细心提供相应的产品手册，方便客户更好地了解拓材科技的产品、品牌与服务。

通过参加此次第24届中国国际光电博览会，拓材科技不仅扩大了公司知名度、提高了行业影响力，更为今后公司市场长期拓展奠定了坚实基础。拓材科技将坚持不断创新，励志前行，未来为更多的业内客户提供半导体超高纯材料解决方案。