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武汉拓材华丽亮相第十四届全国分子束外延学术会议
时间:2021-10-21 15:09:35浏览次数:143次

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第十四届全国分子束外延学术会议于 2021年 10月19日至22日,在江苏省溧阳市长三角物理研究中心召开,本届大会正值纪念全国分子束外延学术会议30周年,我公司很荣幸的带着自家的拳头产品,亮相此次盛会。

本届会议由中国有色金属学会半导体材料学术委员会和中国电子学会电子材料分会共同主办,中国科学院物理研究所承办,长三角物理研究中心协办。全国分子束外延学术会议是每两年举办一次的全国性学术会议,会议的宗旨是展示我国在分子束外延(MBE)及其相关领域的新进展、新动态、新成果,交流和探讨我国分子束外延发展中存在的问题和未来的发展方向,拓宽分子束外延的应用领域,为我国从事分子束外延技术以及相关材料和器件研究的科研人员提供相互了解和交流的机会,同时也为分子束外延相关的上下游产业提供信息沟通和宣传的渠道,从而促进我国分子束外延技术及其相关领域科学技术的发展。

武汉拓材经过精心准备,携MBE级超高纯材料碲、镉、锌、铟、镓、锑、砷、铝、碲化镉、碲化锌、碲化镓、锑化镓、锑化铟等参加本次会议,迎来了全国各地的专家、学者以及新老客户朋友来我司展位参观交流,也充分肯定了我司的MBE级超高纯材料,成为了同行业中一大亮点,也更加坚定了半导体芯片核心原材料中国自造的发展初心。

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这是一次行业的盛宴,更是一次收获之旅。武汉拓材近年来在高纯材料行业内取得了长远的发展,成绩斐然,有着一定的品牌积淀,发展稳健。凭借积极进取的研发精神和高效合理的管理理念,武汉拓材的品牌已经在该领域占据了举足轻重的地位。虽然如此,我们更深感“任重而道远”,肩负起“开拓创新,兴材强国”的企业使命,不断提升管理体系,加速新产品研发进程,为工业提供更高的科技品质,成为国内最优秀的精细功能材料服务商。


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